微信掃一掃 關注浦元最新動（dòng）態！磁控濺射是（shì）一種 (PVD) 工（gōng）藝，是製造（zào）半導體、磁盤驅動器、CD 和光學器件的主要薄膜沉（chén）積方（fāng）法。以（yǐ）下（xià）是磁控濺射中常見的問題。小編列出了可能的原因和相關（guān）解決方案供（gòng）您參考。
● 問題一（yī）：薄膜灰黑或暗黑
● 問題（tí）二：漆膜表麵暗淡無光澤
● 問題三：薄膜顏色不（bú）均勻
● 問題四：起皺、開裂
● 問題五：薄膜表麵有水印、指紋和灰粒
薄膜灰黑或暗黑
丨（shù）真空度小於0.67Pa；真空度應提高到0.13-0.4Pa。
丨氬氣純度小於99.9%；氬氣應更換為純度為 99.99%。
丨充氣（qì）係統漏（lòu）氣；應檢查充氣係統以（yǐ）消除漏氣。
丨薄膜（mó）未充分固（gù）化；薄膜的固化時間應適當延長。
丨鍍（dù）件排出的氣體量過大；應進行幹燥（zào）和密封。
漆膜表麵（miàn）無光澤
丨薄膜固化不良或變（biàn）質；應延長薄膜固化（huà）時間或更換底漆。
丨磁控濺射時間過長；施工時間應適當縮短。
丨磁控濺射成膜速度太快；磁控濺射電流或（huò）電壓應（yīng）適當降低。
薄膜顏色不均勻
丨底漆噴塗不均；底漆的使用方法有待（dài）改進。
丨膜層太薄；應適當提高磁控濺射速率或延長（zhǎng）磁控濺射時間（jiān）。
丨夾（jiá）具（jù）設（shè）計不合理（lǐ）；應改進夾具設計。
丨鍍件幾何形（xíng）狀過於複雜；鍍件的轉速應（yīng）適當提高。
起皺、開裂
丨底漆（qī）噴（pēn）得太厚；應控製噴霧的（de）厚度。
丨塗層粘度過高；應適當（dāng）降低塗（tú）料的（de）粘度。
丨蒸發（fā）速度過快；蒸發速度應（yīng）適當減慢。
丨膜層太厚；濺射時間應適當縮（suō）短。
丨電鍍溫（wēn）度過高；鍍件的加熱時間應適當縮短。
薄膜表麵有水印、指紋和（hé）灰粒
丨鍍件清洗後（hòu）未充分幹（gàn）燥（zào）；應加強鍍前處（chù）理。
丨在鍍件表麵潑水（shuǐ）或唾液；加強文明生產（chǎn），操作人（rén）員戴口罩（zhào）。
丨塗底（dǐ）漆（qī）後，手接觸鍍件（jiàn），表麵留下指紋；嚴禁用手觸摸鍍件表麵。
丨有顆粒物，應過（guò）濾或除塵。
丨靜電除塵失敗或（huò）噴塗固化環境有顆粒粉（fěn）塵；應更換除（chú）塵器並清潔工作環境。
除以上常用材料（liào）外，金屬靶（bǎ）材還有鎳、鋁、鉭、鉿、錳、銅、鋅、銦、錫、等，均有（yǒu）在鍍膜中使用。多質靶材如鈦鋁、鉻鋁、鈦（tài）鋯、銅錳、鎳鉻、矽鋁、釩錸、鎢鉬等。