離子鍍是真空室中，利用氣體放電或被（bèi）蒸發物質部分離化，在氣體離子或被蒸發物質粒子轟擊作用的同（tóng）時（shí），將蒸發物或反（fǎn）應物沉積在基片上。離子鍍把輝光放電現象、等離子體技術和真空蒸發三者有機結合起來，不僅能明顯（xiǎn）地改進了膜質量，而且還擴大了薄膜的應用範圍。其（qí）優點是薄膜（mó）附（fù）著（zhe）力強，繞射（shè）性好，膜材廣泛等。多弧離子鍍與（yǔ）一般的（de）離子鍍有著很（hěn）大的區（qū）別。多弧離子鍍采用的是弧光放電，而並不是傳統（tǒng）離子鍍的輝光放（fàng）電進行沉積（jī）。簡單的說，多弧離子鍍的原理就是把陰極靶作為蒸發源，通過靶與陽極殼體之間的弧光放電，使靶材蒸發，從而在空間中形成等離子體，對基體進行沉積。

可（kě）以鍍製不鏽鋼、鉻、鈦、鎢等多種金（jīn）屬膜，也可鍍製合金膜或化合物，如TiN\TiAlN\CrN膜等,臥式多弧離子鍍膜機主要針對大麵積五金工（gōng）件鍍裝飾膜或者（zhě）功能膜，適合於在不（bú）鏽（xiù）鋼板、不鏽鋼管、不鏽鋼門等工件表麵鍍膜。

1)、此類設備真空室最大（dà）尺寸能實現 φ5000X10000MM（長）
2)、是在大型板（bǎn）材、管材上鍍製各類裝飾膜層及（jí）功能膜膜層的適（shì）合設備。