CJ係（xì）列磁（cí）控濺射真空鍍膜（mó）機的磁控（kòng）濺（jiàn）射工作原理，所謂“濺射”就是用荷能粒子（通常用氣（qì）體正離子）轟擊物體，從而引起物體表麵原子從母體中逸出的現象。早在1842年Grove在實驗室中（zhōng）就發現了這種現象。磁控濺射靶（bǎ）采用靜（jìng）止電磁場，磁場為曲線形，均勻電場和對數（shù）電（diàn）場則分別用於平麵（miàn）靶和同（tóng）軸圓柱靶（bǎ）。電子（zǐ）在電場作用下，加速飛向基片的過程中與氬原子發生碰撞。若電子具有足夠的能量（約為30ev）時，則電離出Ar+並產生電子，電子飛向基片（piàn），Ar+在電（diàn）場作用下，加速飛向陰極（濺射靶）並以高能量轟擊靶（bǎ）表麵，使（shǐ）靶材發生濺射。 

廣泛應用於家電電器、鍾表、高爾夫球頭、工（gōng）藝美（měi）術品、玩（wán）具、車燈反光罩、手（shǒu）機按（àn）鍵外殼（ké）以及儀器儀表、塑料、玻璃、陶瓷、磁磚等表麵（miàn）裝飾性鍍膜及工模具的（de）功能塗層，在鍍製超黑膜、純金裝飾膜、導電膜等（děng）領域有優勢。

1）、膜厚可控性和重複性好。能夠可靠的鍍製預定厚度的薄膜，並且濺射鍍膜（mó）可以在較大的表麵上獲得厚度均勻的膜層；
2）、薄膜與基片的附（fù）著力（lì）強。部分高能量的濺射原子產生不同程度的注入現象（xiàng），在基片上形成一層濺射原子與基片原子相互溶合的偽擴散（sàn）層（céng）；
3）、製備特殊材料的薄膜，可以使用不同的材料同時濺射製備混合膜、化合膜，還可（kě）濺（jiàn）射成TiN仿金膜；
4）、膜層純度高（gāo），濺射膜層中不會（huì）混入坩鍋（guō）加熱器材料的成份。
5 )、裝備低溫離子輔助源，無需加（jiā）熱直（zhí）接常溫冷鍍成膜，節能省電，提高產能。