無論監控儀精度怎樣，它也隻能控製真空室裏（lǐ）單點位置的膜（mó）厚，一般來講是工件架的中間（jiān）位置。如果（guǒ）真空電鍍設備此位（wèi）置的膜厚（hòu）不是絕對均勻的，那麽遠離中心位置的基片就無法得到（dào）均勻的厚度。雖然屏蔽罩（zhào）能消除表現為長期的（de）不均勻性，但有些膜厚度的變化是由蒸發源的不穩定或膜材的不同表現而引起的，所以幾乎是不可能消除的，但對真空（kōng）室的結（jié）構（gòu）和蒸發源的恰當選（xuǎn）擇可（kě）以使這些影（yǐng）響最小化。
　　在過（guò）去（qù）幾年中，越來（lái）越多的用戶要求（qiú）鍍膜係統製造廠（chǎng）家提供高性（xìng）能的小規格、簡便型光學鍍膜係統，同時，用戶對性能的要（yào）求不僅沒有降低，反而有（yǒu）所提高，特別是（shì）在薄膜密度和保（bǎo）證吸水後（hòu）光譜變化（huà）最小化（huà）等方麵。
　　現在，係統的平均尺寸規格已經在降低，而應用小規格設備進（jìn）行（háng）光（guāng）學鍍膜的生產也已經轉變成為純技術問題。因此，選用現代化（huà）光學鍍膜係統的關鍵取決於對以（yǐ）下因素的認真考慮：對鍍膜產品的預期性能，基（jī）片的尺寸大小和物理特性以及保（bǎo）證高度一（yī）致性工藝所必需的所有技術因素。

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