一. 鍍層附著性能好 

普通真空鍍膜時，蒸發料粒子大（dà）約隻以一個電子（zǐ）伏特的能量向工（gōng）件表（biǎo）麵蒸鍍，在工件表麵與鍍層（céng）之（zhī）間，形成的界麵擴散深度通常僅為幾百個埃（10000埃=1微米=0.0001厘米（mǐ））。也就是說比一根頭發絲的百分之一還（hái）要小。兩者間可以說幾乎沒有連接的過渡層，好似截然分開。而離子鍍時，蒸發料粒子電離後具有三千到五千電子伏特的動能。如果（guǒ）說普（pǔ）通（tōng）真空鍍膜的粒子相當於一個氣喘籲籲的長跑運動員，那麽離子鍍的粒子則好似乘坐了高速火（huǒ）箭（jiàn）的乘客，當其高速（sù）轟擊工件時，不但沉積速度快，而且能夠穿透工件表麵，形成一種注入基體很深的擴散層，離子鍍的界麵擴散深度可（kě）達四（sì）至五微米，也就是（shì）說比普通真空鍍膜的擴散深度要深幾十倍，甚至（zhì）上百倍，因而彼此粘附得特別牢。對離子鍍後的試（shì）件（jiàn）作拉伸試驗表明，一直拉到快要斷裂（liè）時，鍍層仍隨基體（tǐ）金屬一（yī）起（qǐ）塑性延伸，無起皮或剝落現象（xiàng）發生。

二.繞鍍能力強

離子鍍（dù）時，蒸發料粒子是以帶（dài）電離子的形（xíng）式在電場中（zhōng）沿著電力線（xiàn）方向運動，因（yīn）而（ér）凡是有電場存在的部位，均能獲得良好鍍層，這比普通真空鍍膜隻能（néng）在直射方向上獲（huò）得鍍層優越得多。因此，這種（zhǒng）方法非常適合於鍍複零件上的內孔、凹槽和窄縫。用（yòng）普通真空（kōng）鍍膜隻能鍍直射（shè）表麵，蒸發料粒子尤如攀登雲梯一樣，隻順梯而上；離子（zǐ）鍍則能均勻地繞鍍（dù）到零件的背麵和內（nèi）孔中，帶電離子則（zé）好（hǎo）比坐上了（le）直升飛機（jī），能夠沿著規定的（de）航線飛抵其活動半徑（jìng）範圍內的任何地方。

三. 鍍層質量好

離子鍍的（de）鍍層組織致密、無針（zhēn）孔（kǒng）、無氣泡、厚度均勻（yún）。甚至棱麵和凹槽都可均勻鍍（dù）複，不致形成金屬瘤（liú）。像螺紋一類的零件也能鍍複，由於這種工藝方（fāng）法還能修補工（gōng）件表（biǎo）麵的微小裂紋和麻點等缺陷，故可有效地改善被鍍零件的表麵質量和物理機械性能。疲勞試驗表明，如果（guǒ）處理得當，工件疲勞（láo）壽命可比鍍前高百分之二、三十（shí）.