真空鍍膜設備多弧離子鍍（dù）膜（mó）上的創新方法，所謂多弧離子鍍膜（mó）就是置待鍍材料和被鍍基板於室內，

真空鍍膜機多（duō）弧離（lí）子鍍膜采用一定方（fāng）法加熱待鍍材料，使之蒸（zhēng）發或升華，並飛行（háng）濺射（shè）到被鍍基板表麵凝聚成膜（mó）的工（gōng）藝。

多弧離子鍍膜的方法，在條件下成膜有很多優點，可減少蒸發材料的原子、分子在飛向基板過程中（zhōng）於分子的碰撞，

減少氣體（tǐ）中的活性分子和蒸發源材料間的化學反應（yīng）（如氧化等），以及減少成膜過程（chéng）中氣體分子進（jìn）入薄（báo）膜中成為雜質的量，從而提（tí）供膜（mó）層的致密度、純度（dù）、沉積（jī）速率和與（yǔ）基板的（de）附著力。

真空鍍膜設（shè）備多弧離子鍍膜工藝不僅避免（miǎn）了傳統表麵處理的不足（zú），且各項技術指標都優於傳統工藝，在（zài）五金（jīn）、機械、化（huà）工、模具、電子、儀器（qì）等領域有廣（guǎng）泛應用。

催化液和傳統（tǒng）處理工藝相比，在技術上有哪些創新？

1、多弧離子鍍膜不用電、降（jiàng）低了成本、成本僅為多弧離子鍍膜鎳的二分（fèn）之一（yī），真空鍍膜機多弧（hú）離子鍍膜鉻的三分之一，不鏽鋼的四分之（zhī）一，可反複利（lì）用，大大降低了成本。