磁控濺射鍍膜技術介紹
作者： 來（lái）源： 日期：2020-06-08 9:18:10 人（rén）氣：16044
磁控濺射（shè）鍍膜設備（bèi）是一種具有（yǒu）結構簡單、電器控製（zhì）穩定性好等優點的真空鍍膜機，其工藝技術的選（xuǎn）擇對薄膜的性能具有重要影響。
磁（cí）控濺射鍍膜技術在陶瓷表麵裝飾（shì）中采用的工藝流程如下（xià）：
陶瓷片→超聲清洗→裝（zhuāng）夾→抽本底真空（kōng）→plasma清洗→加熱→通氬氣→預濺射→抽（chōu）本底真空→濺射（shè）(或多次濺射)→鍍AF膜→破真空卸片→表麵（miàn）檢驗→性能測試（shì）→包（bāo）裝、入庫。
以上工藝技術是以磁控濺射（shè）鍍膜設備為基礎，選用合適的靶（bǎ）材和濺射工藝（yì），製出超硬的耐磨（mó）鍍層，可以實現材料的（de）高硬度（dù）、高耐磨、高耐劃傷特性（xìng）；
同時，利用NCVM光學膜結構設計，設計出各層不同（tóng）折射率材（cái）料，可以調配出任意顏色，使得（dé）陶瓷不僅硬度高、強度高，具備外觀件時尚、美觀的特點，而且不會屏蔽電磁信號。
磁控濺射鍍膜設（shè）備配合NCVM工藝，能夠實現對於陶瓷電子（zǐ）消費（fèi）品的表麵裝飾處理，在保證陶瓷強度和（hé）硬度（dù）的同時（shí），也能夠提升其美觀性（xìng）和藝術性，更好地滿（mǎn）足消費者的個性化需求。
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