膜厚的量測方法大致上可分為原位量測、離位量測兩類 

原位星測係指鍍膜進行中（zhōng）量測，普遍（biàn）使用在（zài）物理氣相沉積，如微天平、光學、電阻量測。

離（lí）位量測係指鍍膜完成後（hòu）量測，對電鍍膜的行使較為普（pǔ）遍，具有了（le）解電鍍效（xiào）率的目的，如（rú）質量、剖麵計（jì）、掃描式電子顯微鏡。