真（zhēn）空鍍膜（mó）技術是一種新穎的材料（liào）合成與加工（gōng）技（jì）術，是表麵工程技術（shù）領域的重要組成部分；

起源於20世紀30年代，直到80年代才形成工業化大規模生產，廣泛應用於電子、裝潢裝飾、通（tōng）訊、照明等工業領域。

是在真空環（huán）境下，金屬或金屬氧化物變成氣態原子或分子，沉積在金屬或非金屬表麵而形成。 

被譽為最具發展前途的（de）重要技術之一，並（bìng）在高技術（shù）產業化的發展中展現出誘人的市場前景。

真空的作用

1. 減少蒸發（fā）分子跟殘餘氣體分子的（de）碰撞

2. 抑製它們之間的反應

優勢 

低耗能、無毒、無廢液、汙染小、成本低、裝（zhuāng）飾效果好、金屬感強。