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真空蒸鍍之工藝對比

作者: 來源(yuán): 日期(qī):2020-09-02 11:14:18 人氣:151828
1. 電阻蒸發源蒸鍍發  


A. 加熱:高熔點金屬做成適當形狀蒸發源,電流通過直接加熱。 


B. 優點:結構簡單、造價便宜、使用可靠


C. 缺點(diǎn):所能到到的最高溫度有限,加熱器壽命較短


D. 適合:熔點不(bú)太高,尤(yóu)其對膜層質量要求不大高的大批量生(shēng)產。 


 2. 電子束蒸發(fā)源蒸鍍發 


A. 蒸(zhēng)發(fā)材料放入冷水鉗鍋中,利用電子束(shù)加熱(rè)


B. 優點:獲得更大能量(liàng)密度(dù),使高熔點材料(liào)蒸發且(qiě)速度快,膜的純度(dù)較高,熱效率高(gāo)。


C. 分類(lèi):環形槍(qiāng),直槍,e型槍和空心(xīn)陰極槍等幾種。


D. 適合:高熔點,純度要(yào)求高的(de)材料。
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