濺射靶材具有高純度、高密度、多組元、晶（jīng）粒均勻（yún）等（děng）特點，一般（bān）由靶坯和背（bèi）板組成。

靶坯屬於濺射（shè）靶材（cái）的核心部分，是高速離子束流（liú）轟擊的目標材料。

靶坯被離子撞擊（jī）後，其表麵原子被濺射飛散出來並沉積於基板上製成（chéng）電子薄膜。

由於高純度金屬強度較低，因此濺射靶（bǎ）材需要在高電壓、高（gāo）真空的機台環境內完成濺射過程。

超高純金屬（shǔ）的濺射（shè）靶坯需要（yào）與背板通過不同的焊接工藝進行接合，背（bèi）板起到主（zhǔ）要起到固定濺射（shè）靶（bǎ）材（cái）的作用，且需要具備良好的導電、導熱性能。