用來進行介質膜的濺射，如在玻璃上鍍ITO膜之前需（xū）鍍上一層SiO2擴散隔離層，該SiO2膜就是采（cǎi）用射頻濺（jiàn）射。
通常在濺射過程中輝光放電中的離子撞（zhuàng）擊（jī）到（dào）陰極時，會與陰極的電子中（zhōng）和，是的濺射（shè）現象可以繼續進行。
但若靶材本身不導電的話，離（lí）子撞擊到靶材上沒有電子中和，
正電荷一直累積，使與後來的離子（zǐ）排斥，這會造成取代直流（liú）電（diàn）源，使可解決（jué）此離子撞擊現象的停頓。
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