浦元真（zhēn）空（kōng）帶你（nǐ）了解真空（kōng）蒸發鍍膜法的概念：

1.基本原理：真空蒸發（fā）鍍膜法（簡稱真空蒸（zhēng）鍍）是在真空室中加熱蒸發容器（qì）中待形成薄膜的原材料使其原子或分子從表麵氣化逸出，形成蒸汽（qì）流入射到固體（tǐ）（稱為襯底或基片（piàn））表麵凝結形（xíng）成固態薄膜的方法。 

2.真空蒸鍍時尤其（qí）是對真空環境的要求更嚴格其原因有：

A.防止在高溫（wēn）下因空氣（qì）分子和蒸發（fā）源發生反應；

B.防止因蒸發物質的分子在鍍膜室內與空氣分子碰撞；

C.防止空氣分子作為雜質混入膜內或者在薄膜中形成化合物；

3.設（shè）備：真空鍍膜室和真空抽氣係統兩大部分組成。真空鍍膜室內裝有蒸發源、被蒸鍍材料、基片支架及基片等。